Современные решения для производства электроники


Osiris

Компания Osiris International – это производитель оборудования для проведения фотолитографических процессов при производстве полупроводниковых bзделий и МЭМС устройств.

Все системы компании Osiris отличаются простотой и удобством программирования и обслуживания.Оборудование подходит как для стандартных кремниевых пластин, так и для полупроводниковых подложек из других материалов (SiC, GaAs, стекло).

Линейка оборудования Osiris включает в себя как лабораторные установки, так и автоматизированные кластерные системы.

Модельный ряд Osiris

Osiris BASIXX ST20+ - установка нанесения и проявления фоторезиста
Установка предназначена для нанесения и проявления фоторезиста методом центрифугирования. Подходит для подложек диаметром до 200 мм или с размерами до 150х150 мм.
CHEMIXX 30pm - установка отмывки пластин
Установка предназначена для отмывки полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм, подложек и фотошаблонов размером до 9” x 9”, с использованием растворителей, мегазвука и механической очистки щёткой
Osiris UNIXX НT20e/HB20e - Установка/модуль для сушки фоторезиста
Нагревательная плита для сушки фоторезиста, подходит для подложек диаметром до 200 мм, или до 200х200 мм.
CHEMIXX Mask30 - установка отмывки пластин
Установка предназначена для отмывки фотошаблонов размером до 9” x 9 и полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм
Osiris UNIXX HT20p/HB20p - установка/модуль для сушки фоторезиста
Нагревательная плита для сушки фоторезиста, подходит для подложек диаметром до 200 мм, или до 200х200 мм.
Osiris UNIXX SP20 - установка спрей-нанесения фоторезиста
Установка спрей-нанесения фоторезиста, подходит для подложек диаметром до 200 мм или с размерами до 150х150 мм.
Другие производители