Современные решения для производства электроники

Osiris UNIXX НT20e/HB20e - Установка/модуль для сушки фоторезиста

Нагревательная плита UNIXX НT20e/HB20e преднаначена для сушки фоторезиста, подходит для подложек диаметром до 200 мм, или до 200х200 мм, разработана для лабораторных применений и небольших серийных производств.

Преимущества нагревательной плиты UNIXX НT20e/HB20e:

  • Подъёмные пины с программируемой регулировкой высоты
  • Равномерный нагрев
  • Удобство в управлении, написании и сохранении технологических программ

Особенности нагревательной плиты UNIXX НT20e/HB20e:

  • Настольная установка в корпусе из полипропилена (НT20e) либо встраиваемый модуль (HB20e)
  • Вакуумная фиксация подложки на поверхности плиты
  • Интерфейс: сенсорный экран 7”
  • Опционально доступны продувка азотом и нанесение ГМДС

Технические характеристики установки UNIXX НT20e/HB20e:

Размеры пластин/подложек

Круглые диаметром до 200 мм,

Квадратные с размерами до 200х200 мм

Нагрев

До 300°С

Шаг 1°С

Точность поддержания температуры

±1°С при 100°С

Подъёмные пины

Комплект для работы с пластинами 50~200 мм

Материал плиты

Анодированный алюминий

Материал крышки

Нержавеющая сталь

Требуемые подключения

Электропитание: 220 В, 1 фаза, 50 Гц;

Подача сжатого воздуха (опционально): 8 бар

Вакуум: -0,8 бар

Вытяжка: 80 м3

Подача азота (опционально): 4 бар

Габариты

Настольная установка (НT20e): 340х510х340 мм

Встраиваемый модуль (HB20e): 340х370х325/650 мм

Компания предлагает оборудование для работы с фоторезистом: нанесение, проявление, сушка; а также установки для отмывки фотошаблонов, установки сращивания пластин.

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Операции с фоторезистом