Современные решения для производства электроники

Жидкостная обработка

ASSI SV-702-M2 - двухкамерная установка отмывки и сушки
Установка отмывки и сушки пластин с фронтальной загрузкой, может поставляться как в двухкамерном исполнении, так и в исполнении с одной камерой, а также, напольного или настольного типа.
Osiris CHEMIXX 30pm - установка отмывки пластин
Установка предназначена для отмывки полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм, подложек и фотошаблонов размером до 9” x 9”, с использованием растворителей, мегазвука и механической очистки щёткой
Osiris CHEMIXX Mask30 - установка отмывки пластин
Установка предназначена для отмывки фотошаблонов размером до 9” x 9 и полупроводниковых пластин диаметром до 300 мм
CEE 300MXD - установка жидкостной обработки с мегазвуком
Установка предназначена для обработки полупроводниковых пластин и с применением мегазвукового воздействия.