Установка PC330 использует технологию ультразвукового нанесения материала для получения фоторезистивных слоев высокой однородности на пластинах и подложках при производстве изделий микроэлектроники.
Установки ультразвукового спрей-нанесения материалов серии PL широко используются для нанесения фоторезистивных слоев на пластины и подложки при производстве изделий микроэлектроники
Установка отмывки и сушки пластин с фронтальной загрузкой, может поставляться как в двухкамерном исполнении, так и в исполнении с одной камерой, а также, напольного или настольного типа.
Установки ультразвукового спрей-нанесения материалов USS10 широко используются для нанесения различных материалов на пластины и подложки при производстве изделий микроэлектроники.
Установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования предназначена для нанесения фоторезистивных слоев на подложки и пластины с размерами 4”, 6”, 60х48 мм
