Настольная установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования
Установка нанесения фоторезиста методом центрифугирования предназначена для нанесения фоторезистивных слоев на подложки и пластины различной формы, высокая однородность нанесения достигается за счет синхронного вращения крышки установки.
Преимущества модели:
- Синхронное вращение крышки
- Автоматическое дозирование фоторезиста
- Автоматическое удаление краевого валика (на круглых подложках)
- Высокая однородность наносимых материалов, в том числе для прямоугольных подложек
- Возможность задания до 10 шагов программы
Технические характеристики модели:
|
Скорость вращения шпинделя |
50 – 8000 об/мин (макс. скорость для пластин диаметром 6” – 6000 об/мин) |
|
Точность регулировки скорости вращения |
± 1 об/мин |
|
Длительность процесса |
|
|
Однородность наносимых материалов |
± 2 % |
|
Управление |
ПЛК |
|
Держатели образцов |
4”, 6”, 60х48 мм |
Промышленные системы хранения материалов и элементов