Современные решения для производства электроники

Атомно-слоевое осаждение (ALD)

Технология атомно-слоевого осаждения (АСО, в англоязычной литературе ALD, Atomic Layer Deposition) основана на последовательности самоограниченных газофазных химических реакций на поверхности образцов, что позволяет контролировать рост плёнок в нанометровом масштабе и получать ультратонкие, высокооднородные и конформные слои различных материалов на образцах с геометрией различной сложности. В отличии от метода CVD (химическое осаждение из газовой фазы), прекурсоры не смешиваются и не взаимодействуют между собой до попадания на подложку, температуры осаждения лежат в более низком диапазоне (существуют процессы, происходящие при комнатной температуре). Помимо этого, ALD-процессы обладают высокой воспроизводимостью и могут проводиться при относительно низких температурах.

Перечень материалов, доступных для технологии ALD, достаточно широк; он включает в себя оксиды, нитриды, оксонитриды, фториды и сульфиды, металлы (включая благородные), метало-органические соединения, полимеры, тройные соединения и другие классы соединений.

 

Число областей применения ALD-технологии за последние несколько лет экспоненциально возросло, и в настоящее время данный метод используется не только в полупроводниковой промышленности (при изготовлении микросхем, сенсоров, устройств AIII-BV, МЭМС), но также для защиты от коррозии, аккумулирования энергии, получения биосовместимых покрытий для медицины,  органических светоизлучающих диодов (OLED), влагозащитных и декоративных покрытий и в других применениях.

   Брошюра на русском языке

   Брошюра об оборудовании 200 мм на русском языке

   Брошюра об оборудовании 300 мм на русском языке

R-серия инструментов АСО плёнок PICOSUN
Серия, имеющая уникальный дизайн с горячими стенками внутренней камеры, верхней подачей прекурсоров и конструкцию с двойной камерой, гарантирует напыление плёнок АСО высочайшего качества. Плёнки обладают превосходной однородностью даже на поверхностях со сверхсложными структурами, такими как образцы со сквозными порами, микроканавки со свехвысоким соотношением геометрических размеров и на наночастицах порошков.
Инструменты АСО плёнок PICOSUN P-300
Серия определяет новую эру АСО производств в промышленных масштабах, является полностью автоматизированным, оптимизировано для промышленных производств с возможностью объединения в кластеры.
PICOSUN P-1000 - промышленный инструмент АСО пленок пакетного типа
Инструмент АСО пленок пакетного типа PICOSUN P-1000 со сверхвысокими объемами обработки образцов ставит Picosun среди лидеров новой технологии. Реакционная камера P-1000 спроектирована таким образом, чтобы вместить пакеты подложек диаметром до 450 мм, а также большие листы стекла.
Вакуумный кластерный инструмент PICOPLATFORM 200
Вакуумный кластерный инструмент PICOPLATFORM™ 200 продолжает идею уникальной масштабируемости и модульности всех инструментов АСО PICOSUN™. Кластер состоит из нескольких отдельных реакционных камер для АСО, интегрированных вокруг центрального модуля загрузки и контроля, основанного на вакуумном роботизированном манипуляторе Brooks MX400.
Вакуумный кластерный инструмент PICOPLATFORM 300
Вакуумный кластерный инструмент PICOPLATFORM 300 предлагает непревзойденное качество процесса АСО, высокую производительность и уникальный принцип модульности с полностью стандартизированными автоматизированными решениями для производств в больших объемах.
PICOSUN P-1200 - промышленный инструмент АСО пленок пакетного типа
Установка атомно-слоевого осаждения Picosun P-1200 предназначена для обработки подложек больших размеров, в том числе из гибких материалов, и рассчитана на применение в крупносерийном промышленном производстве. Установка Picosun P-1200 имеет инновационную модульную конструкцию, обеспечивает максимальную производительность, минимальное время простоя, низкую стоимость владения и высочайшее качество тонких плёнок с превосходной однородностью.