Система репликации маски включает в себя источник излучения (ближний и дальний УФ), источник питания и ручной либо автоматический контроллер экспозиции. Этот продукт в основном сосредоточен на процессе единичной литографии с высокой производительностью при низкой стоимости решения.
Полуавтоматическая система одностороннего совмещения. Особенно подходит для производства оптико-электронных устройств и светодиодов, управляется с помощью PLC-контроллера и сенсорного экрана. Процесс запускается одним нажатием кнопки, что эффективно повышает производительность и стабильность.
Полностью автоматическая система совмещения и экспонирования применяется для совмещения пластины/подложки и фотошаблона по лицевой стороне с последующим экспонированием фоторезиста.
