Современные решения для производства электроники

ABM/6/350/NUV/DCCD/M - ручная система одностороннего совмещения и экспонирования

Основные технические характеристики:

— Размер области однородного излучения: 6”
— Однородность пучка:
    < ±1% в пределах области 2” (круг)
    < ±2% в пределах области 4” (круг)
    < ±3% в пределах области 6” (круг)
— Разрешающая способность:
    < 0.5 микрон для вакуумного и жёсткого контакта (экспонирование в ближнем УФ)
    < 0.3 микрон для вакуумного и жёсткого контакта (экспонирование в дальнем УФ)
— Точность совмещения : +/- 0.5 микрон
— Работа с позитивными, негативными и толстыми фоторезистами, толщина фоторезиста SU-8 до 300 микрон в пропорции до 10:1
— Мягкий, жёсткий, вакуумный контакты и экспонирование с зазором
— 6” источник излучения для экспонирования, спектральные линии G, H и I
— Работа с 2”, 3” ,4”, 6” круглыми и квадратными подложками
— Регулируемый по мощности 2−х канальный источник питания для ближнего УФ с постоянной интенсивностью, мощность 350 Вт.
— Источники питания 500, 1000 и 2000 Вт в ближнем и дальнем УФ (опция)
— Сдвоенная ПЗС-камера и микроскоп, с единым и расщеплённым полем (опция).

Установки совмещения и экспонирования

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Фотолитография