TFE BV3/4F - установки вакуумного магнетронного напыления
TFE BV3/4F — установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок с вертикальным расположением подложек и магнетронных источников. Данная конфигурация обеспечивает высокую однородность плёнок в процессе осаждения. Ключевые параметры и опциональные возможности аналогичны серии TFE BH3/4F.
|
Модель |
BV3F |
BV4F |
|
Размер магнетронных источников |
76 мм х 381 мм; 127 мм х 381 мм; 76 мм х 431 мм; 127 мм х 431 мм |
|
|
Количество обрабатываемых подложек за один рабочий цикл |
16 шт, диаметром 76 мм; 9 шт, диаметром 102 мм |
|
|
Размер подложек (макс.) |
315 х 315 мм |
|
|
Количество магнетронных источников |
3 |
4 |
|
Мощность DC источника питания |
10 кВт |
|
|
Мощность RF источника питания |
1 кВт; опционально — 2 кВт |
|
|
Перемещение подложек в процессе напыления |
Сканирующий режим |
|
|
Размещение подложек |
Вертикальное |
|
|
Нагрев подложек |
До 250°С, опционально — до 400°С |
|
|
Однородность толщины напыляемых пленок |
± 3% |
|
|
Травление подложек |
RF источник до 1 кВт/2 кВт; опционально — плазменный источник |
|
|
Типы насосов |
Криогенный; опционально — турбомолекулярный |
|
|
Предельный вакуум |
5 х 10−7 мбар |
|
