Современные решения для производства электроники

IoN 3B и 7B - установки плазменной обработки поверхностей

IoN 3B и 7B

Установки плазменной обработки IoN 3B, 7B- это компактные модели для очистки и активации поверхностей, предназначенные для мелкосерийного производства и лабораторных применений в микроэлектронике, биомедицинских технологиях и других отраслях. Конфигурация электродной системы позволяет проводить как мягкую плазменную очистку, так и для реактивного ионного травления. Оснащены улучшенной системой контроля параметров процесса (давление, время процесса, расход и смесь газа), имеют звуковые сигналы оповещения, панель диагностики статуса системы.

Основные преимущества моделей:

  • Высокая однородность плазмы внутри рабочей камеры
  • Превосходное качество и повторяемость процессов
  • Компактный дизайн

Технические характеристики:

Модель

IoN 3B

IoN 7B

Материал рабочей камеры

Анодированный алюминий

Внутренние размеры рабочей камеры (ШхГхВ)

140х200х110 мм

200х220х160 мм

Объем рабочей камеры

3 л

7 л

Частота плазменного источника

20 — 100 кГц

13,56 кГц (опционально)

20 – 100 кГц

13,56 кГц или 13,56 МГц

(опционально)

Мощность плазменного источника

200 Вт

300 Вт (опционально)

200 Вт

300 или 600 Вт (опционально)

Рабочий газ

Кислород,  аргон и другие газы

Количество расходомеров

1 шт. (стандартно)

до 3 шт. (опционально)

Продувка рабочей камеры

Азот, воздух

Электропитание

220 В, 1 ф., 50 В

Габаритные размеры (ДхШхВ)

580х610х350 мм

650х660х550 мм

Вес

59 кг

59 кг

 

Немецкая компания PVA TePla AG специализируется на производстве плазменного и вакуумного оборудования

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Плазменная обработка