Kenosistec KS 300С/500C/1000С - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c конфокальным расположением магнетронных источников

Установки KS 300C/500C/1000C позволяют проводить одно- и многослойное магнетронное напыление тонких пленок. Оснащены магнетронными источниками (DC/RF) c горизонтальным расположением мишеней, системой вакуумных насосов с измерительными датчиками, системой подачи рабочих газов с регулировкой расхода, вращающимся подложкодержателем, резистивными элементами для предварительного нагрева подложек и нагрева подложек в процессе осаждения. Ключевой особенностью моделей KS 300C/500C/1000C является возможность совместного распыления материалов с высокой однородностью. В зависимости от требований заказчика может проводиться очистка образцов, травление, магнетронное распыление мишеней вверх или вниз.

Технические характеристики:

Модель	KS 300С	KS 500С	KS 1000С
Размеры вакуумной камеры	Ø 500 мм, 400 мм (В)	Ø 600 мм, 450 мм (В)	Ø 1000 мм, 600 мм (В)
Количество магнетронных источников	До 3 шт.	До 6 шт.	До 11 шт.
Диаметр магнетронных источников (макс.)	76 мм	102 мм	102 мм
Мощность DC источника питания (макс.)	1 кВт	1 кВт	1 кВт
Мощность RF источника питания (макс.)	600 Вт	1 кВт	1 кВт
Нагрев подложек	400 °С макс.; опционально – 800 °С
Охлаждение подложек	Вода
Травление подложек	RF/DC источник 600 Вт
Однородность толщины напыляемых пленок	± 3% (для подложек диаметром 102 мм)
Типы вакуумных насосов	Криогенный, турбомолекулярный
Предельный вакуум в камере	2х10−7 мбар (опционально 10−9 мбар)
Загрузочный шлюз	Ручной	Автоматический	Автоматический