Современные решения для производства электроники

Kenosistec KS 300С/500C/1000С - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c конфокальным расположением магнетронных источников

Kenosistec KS 300С/500C/1000С

Установки KS 300C/500C/1000C позволяют проводить одно- и многослойное магнетронное напыление тонких пленок. Оснащены магнетронными источниками (DC/RF) c горизонтальным расположением мишеней, системой вакуумных насосов с измерительными датчиками, системой подачи рабочих газов с регулировкой расхода, вращающимся подложкодержателем, резистивными элементами для предварительного нагрева подложек и нагрева подложек в процессе осаждения. Ключевой особенностью моделей KS 300C/500C/1000C является возможность совместного распыления материалов с высокой однородностью. В зависимости от требований заказчика может проводиться очистка образцов, травление, магнетронное распыление мишеней вверх или вниз.

Технические характеристики:

Модель

 KS 300С

KS 500С

KS 1000С

Размеры вакуумной камеры

Ø 500 мм,

400 мм (В)

Ø 600 мм,

450 мм (В)

Ø 1000 мм,

600 мм (В)

Количество магнетронных источников

До 3 шт.

До 6 шт.

До 11 шт.

Диаметр магнетронных источников (макс.)

76 мм

102 мм

102 мм

Мощность DC источника питания (макс.)

1 кВт

1 кВт

1 кВт

Мощность RF источника питания (макс.)

600 Вт

1 кВт

1 кВт

Нагрев подложек

400 °С макс.; опционально – 800 °С

Охлаждение подложек

Вода

Травление подложек

RF/DC источник 600 Вт

Однородность толщины напыляемых пленок

± 3% (для подложек диаметром 102 мм)

Типы вакуумных насосов

Криогенный, турбомолекулярный

Предельный вакуум в камере

2х10−7 мбар (опционально 10−9 мбар)

Загрузочный шлюз

Ручной

Автоматический

Автоматический

 

Cистемы магнетронного напыления тонких пленок

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Магнетронное напыление