Современные решения для производства электроники

GIGAbatch 310 M - установка плазменного травления фоторезиста

GIGAbatch 310 M

Установка GIGAbatch 310M – это компактная настольная модель для удаления фоторезиста после высокодозной ионной имплантации или сухого травления в производстве полупроводниковых приборов. Подходит для пластин различных материалов, таких как кремний, соединения III/V, кварц, керамика, ниобат лития и др. Опционально оснащается специализированными манипуляторами для перемещения подложконосителей (кварцевых лодочек). Имеет шлюз ручной загрузки пластин в рабочую камеру.

Микроволновая плазма обеспечивает высокую концентрацию химически активных частиц с низкой энергией ионной бомбардировки, что гарантирует высокую скорость травления и отсутствие повреждений.

  • Одиночная и кассетная загрузка
  • Удаление фоторезиста без повреждений структуры на подложке
  • Идеальное решение для небольших производств и лабораторных исследований

Контроль процесса производится в режиме реального времени, с отображением графиков рисунков на экране; производится запись и экспорт данных о процессе. Для управления системой служат ПК контроллер и цветной монитор 10.4”; операционная система реального времени QNX. В системе имеется функция запоминания процессов (1−10 шагов каждый), сообщения об ошибках и системные предупреждения, пользовательский пароль.

Технические характеристики:

Размеры пластин

До 150 мм

Производительность

25 шт. (для пластин 150 мм)

50 шт. (для пластин 100 мм)

Загрузка пластин

Ручная

Материал рабочей камеры

Кварц

Размеры камеры

245 мм (диаметр) х 395 мм (глубина)

Объем камеры

18 л

Плазменный источник

Частота

2.45 ГГц

 

Максимальная мощность

600 Вт

Подача рабочего газа

1 газовая линия (опционально до 2−х)

Вакуумный датчик

                 Емкостной манометр MKS Baratron

Управление

ПК с монитором 10,4”;

Контроль параметров в режиме реального времени; отображение графиков; запись и хранение рецептов; экспорт данных; сообщения об ошибках и предупреждения

Опции

Масляный роторный пластинчатый насос или сухой насос; комплект для удаления фоторезиста SU-8; дополнительная газовая линия

Габаритные размеры (Д х В х Ш)

795 х 650 х 710 мм

Вес

150 кг

Немецкая компания PVA TePla AG специализируется на производстве плазменного и вакуумного оборудования

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Плазменное удаление фоторезиста