Формирование микрорельефа методом лазерной литографии

Научный интерес к электронным изделиям нано- и субмикронного масштаба растет с каждым годом. Традиционный метод получения рельефа на подложках сочетает в себе применение фотошаблонов и однородного освещения для селективной активации фоторезистов. Применение фотошаблонов позволяет быстро получать необходимый рисунок на подложках, однако, внести изменения в рисунок невозможно без замены фотошаблона. Кроме того, сохраняющиеся тенденции к миниатюризации изделий требуют использования фотошаблонов со структурами микронных размеров, которые крайне трудно совмещать с микроструктурами на подложках.

Рис.1 Токоведущие дорожки микронного размера

Поэтому для создания микрорельефа удобно использовать технологию прямой лазерной литографии без фотошаблона. В этом случае рисунок в слое фоторезиста формируется с помощью точного лазерного воздействия. А размеры формируемых структур зависят от размеров лазерного луча и точности его позиционирования.

Однако, оборудование для лазерной литографии, как правило, дорогостоящее и имеет большие габаритные размеры. А необходимость длительного программирования установки перед использованием делает оборудование такого рода неприемлемым для применения в научно-исследовательских работах. Кроме того, большинство установок лазерной литографии не позволяют работать с подложками нестандартной формы, переменной толщины и с кусочками подложек малых размеров.

Установка лазерной литографии miDALIX DaLI разработана специально для научно-исследовательских институтов и лабораторий. Она имеет малые размеры, невысокую стоимость и ее легко программировать. Управляемая с помощью стандартного ПК, система DaLI, может работать с подложками любых размеров, начиная от менее 1 мм до 100 мм. А функция автоматического выравнивания подложки позволяет компенсировать неравномерность толщины подложки.

Рис.2 Пример рисунка, сформированного с помощью установки лазерной литографии DaLI

Установка DaLI может использоваться в двух режимах сканирования: точный режим подходит для формирования структур микронных размеров, грубый режим – для структур с размерами несколько сотен микрометров. Сочетание двух режимов позволяет оптимизировать процесс, минимизируя общее время процесса.

Программное обеспечение DaLI позволяет настраивать растровую плотность структуры, размер лазерного пятна, дозу освещения и различные другие параметры. При этом лазерный луч в системе DaLI перемещается чрезвычайно точно, благодаря управлению с помощью акустооптических дефлекторов (AOD). В отличие от других популярных устройств управления лучом, например Гальво-сканеры, дефлекторы AOD не имеют движущихся частей и обеспечивают точность позиционирования и разрешение луча в один нанометр в сочетании с другой оптикой и механикой системы DaLI. В ходе процесса литографии лазерный луч выборочно освещает желаемые области фоторезиста.

Формирование мелких структур требует сфокусированного лазерного луча для достижения нужного разрешения. Лазерная установка miDALIX DaLI имеет автоматически изменяемый размер лазерного пятна для ускорения процесса сканирования, быстрое переключение с точного инструмента на грубый за считанные секунды. При увеличении размера лазерного пятна скорость сканирования увеличивается, в результате чего общее время сканирования сокращается.

Рис.3 Настольная установка лазерной литографии DaLI

Система MiDALIX DaLI может использоваться для формирования микрорельефа золотых электродов на кремниевой подложке с использованием прямой лазерной литографии без маски. Этот техпроцесс является всего лишь одним из возможных применений системы DaLI, которая также отлично подходит для изготовления микрожидкостных схем, фотошаблонов, микрооптики и других задач.

По вопросам стоимости системы лазерной литографии MiDALIX DaLI обращайтесь, пожалуйста, к специалистам компании Евроинтех.