Современные решения для производства электроники

Kenosistec KS 40/80/120V - установки вакуумного магнетронного напыления тонких пленок c вертикальным расположением магнетронных источников

Kenosistec KS 40/80/120V

Установки KS 40V/80V/120V позволяют проводить одно- и многослойное магнетронное осаждение тонких пленок. Оснащены магнетронными источниками (DC/RF) c вертикальным расположением мишеней, системой вакуумных насосов с измерительными датчиками, системой подачи рабочих газов с регулировкой расхода, вращающимся подложкодержателем, резистивными элементами для предварительного нагрева подложек и нагрева подложек в процессе осаждения. Ключевой особенностью моделей KS 40V/80V/120V является высочайшая однородность напыляемых слоев по толщине благодаря вертикальному расположению магнетронов и подложек, а также возможность обработки большого количества образцов за один цикл. В зависимости от требований заказчика может проводиться очистка образцов и травление.

Технические характеристики:

Модель

 KS 40V

KS 80V

KS 120V

Размеры вакуумной камеры

Ø 500 мм,

400 мм (В)

Ø 1000 мм,

800 мм (В)

Ø 1000 мм,

1200 мм (В)

Количество магнетронных источников

До 6 шт.

Длина магнетронных источников (макс.)

305 мм

559 мм

910 мм

Мощность DC источника питания (макс.)

5 кВт

10 кВт

10 кВт

Мощность RF источника питания (макс.)

1,5 кВт

5 кВт

5 кВт

Нагрев подложек

350 °С макс.; опционально – 800 °С

Охлаждение подложек

Вода или жидкий азот

Размер подложек (макс.)

254 мм

508 мм

864 мм

Однородность толщины напыляемых пленок

± 3% (для подложек диаметром 102 мм)

Типы вакуумных насосов

Криогенный, турбомолекулярный

Предельный вакуум в камере

2х10−7 мбар (опционально 10−9 мбар)

 

Cистемы магнетронного напыления тонких пленок

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Магнетронное напыление