Современные решения для производства электроники

ORBIS ALPHA XERIC - установка травления кремния и оксида кремния

ORBIS ALPHA XERIC

Установка Orbis Alpha XERIC предназначена для изотропного травления кремния и оксида кремния. Типичной областью применения является производство МЭМС, микрофлюидных устройств, акустических резонаторов и т.д. Установка состоит из базовой платформы Orbis Alpha и модуля XERIC.

Orbis Alpha является лабораторной платформой, предназначенной для использования в исследовательских разработках. Платформа обеспечивает доступ к технологии производства МЭМС при минимальных затратах. Загрузка изделий происходит вручную.

Модуль XERIC предназначен для травления Si и SiO2 в непрерывном потоке, с высокоточным дозированием, контролем температуры и давления рабочего газа.

 

Основные особенности и преимущества:

  • Равномерное травление во всех направлениях (изотропный процесс)
  • Превосходная однородность по пластине и повторяемость процесса
  • Высокая скорость и селективность травления
  • Точный контроль и широкий диапазон параметров
  • Экономичное решение для исследовательских разработок

 

Технические характеристики:

Размер пластин и подложек:

до 200 мм

Загрузка

1 пластина/цикл

Рабочие газы

XeF2 (травление Si),

HF (травление SiO2)

Система подачи

Газовый душ

Регулировка давления

Автоматическая

Управление

ПК под управлением ОС Windows, сенсорный экран

keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Травление жертвенных слоев