28 мая 2021

Группа компаний Picosun оптимизировала процессы атомно-слоевого осаждения пленок Al2O3 и SiO2.

В ходе исследований использовалась установка атомно-слоевого осаждения PICOSUN® Sprinter ALD system для осаждения пленок Al2O3 и SiO2. Результаты измерений пленок Al2O3 показали отличную однородность толщины даже при низкой температуре осаждения 90 ° C. А при температуре осаждения 300 ° C однородность оказалась на рекордном уровне <0,2% 1 сигма при измерении на одной пластине.

Кроме того, специалистам удалось повысить производственную мощность более чем вдвое за последние два месяца без ухудшения однородности.

Также были проведены исследования процессов осаждения пленок SiO2, которые показали высокую однородность пленок SiO2 при температуре осаждения 300–390 ° C. Дополнительная информация об этих и других улучшениях процесса доступна по запросу.

Нанесение пленок Al2O3 – это один из наиболее распространенных процессов в производстве датчиков изображения и дисплеев. Осаждение тонких пленок SiO2 широко используется в процессе производства, например, логических микросхем в качестве разделителей или многослойных приложений.

В декабре 2020 года группа компания Picosun представила систему атомно-слоевого осаждения Sprinter для быстрой пакетной обработки пластин диаметром 300 мм. За более подробной информацией о возможностях и технических характеристиках установки PICOSUN® Sprinter обращайтесь, пожалуйста, к специалистам компании Евроинтех.