Современные решения для производства электроники

Premtek RTP-781SA - установка для проведения быстрых термических процессов

Premtek RTP-781SA

Внимание! Продукт больше не поставляется! По всем вопросам обращайтесь по телефону +7−(495)−228−72−04

Установка RTP-781SA – это печь для проведения быстрых термических процессов с пластинами и подложками диаметром до 200 мм. Используется для термообработки и  отжига материалов из кремния, германия, арсенида галия, фосфида индия, силицидов, нитридов титана,  поликремния  и др. Одновременный нагрев с двух сторон с помощью ИК галогеновых ламп позволяет достичь высокой температурной однородности внутри печи.

Модель RTP-781SA  имеет имеет кварцевую камеру с внутренними теплыми стенками, водяное охлаждение, оснащена монитором для многозонного контроля ламп в режиме реального времени с обратной связью, сенсорным экраном, механической блокировкой двери, двумя газовыми линиями, множественными блокировками безопасности и сигналами оповещения оператора. Загрузка/выгрузка пластин осуществляется вручную.

Технические характеристики:

Диаметр пластин

До 200 мм (2”, 3”, 4”, 6”, 8” )

Количество обрабатываемых пластин за один цикл

16 шт. диаметром 2”; 4 шт. диаметром 4”;

1 шт. диаметром 8”

Диапазон рабочих температур

200 – 1250 °С,

встроенная термопара К-типа (0 – 800 °С)

Скорость нагрева

≤ 50 °С/сек

Точность поддержания температуры

Для температур ниже 500 °С: ± 5 °С;

Для температур выше 500 °С: ± 1%

Температурная повторяемость

± 2 °С

Нагревательные лампы

33  галогеновые ламп по 2 кВт

Количество газовых линий

2 шт. (стандартно)

 

 

Опции

Пирометр  (800 – 1250 °С); 2 дополнительные газовые линии (в сумме до 4−х)

Питание

380 В, 50 Гц, 3 ф., 125 А

Требуемые подключения

Сжатый воздух: 4 – 6 бар; 120–150 л/мин

Вода: 18 – 25 °С; 3−5 бар; 20 л/мин

Азот: линия 1: 3−5 бар;  100 л/мин (макс.)

           линия 2: 3 бар; 10 л/мин (макс.)

Вытяжка: > 300 л/мин

Габариты (ШхГхВ)

800х1300х1900 мм

Вес

330 кг

 

Применение:

Область

применения

Продукт

Процесс

Среда

Последующее использование

LED

Синий/зеленый светодиод

Эпитаксия

Атм

Освещение, подсветка

 

 

Отжиг ITO- распыление магнетроном

Атм

 

 

 

Отжиг ITO- ЭЛИ

Вакуум

 

 

УФ-светодиод

Эпитаксия

Атм

УФ-отверждение

 

 

Контактный отжиг

Вакуум

 

Лазерные устройства

GaAs, InP лазерные диоды

Эпитаксия

Атм

Оптоволоконная связь

 

 

Отжиг

Атм

 

Пластина с кристаллами

Отожженная пластина

Снижение концентрации ННЗ

атм

пластина

 

 

Формирование геттера

Атм

 

Силовая электроника

Si, Si-Ge приборы

Пост имплантационный отжиг

Атм

BGT, MOSFET, Тиристоры, PN-диоды, PIN-диоды, HBT, HEMT, IGBT,GTO

Отжиг, силицидизация

вакуум

SiC приборы

Пост имплантационный отжиг

Атм

 

P-контакт

вакуум

 

N-контакт

вакуум

GaN приборы GaN/Si, GaN/SiC, GaN/GaN

Пост имплантационный отжиг

Атм

 

P-контакт

Вакуум

 

N-контакт

Вакуум

GaAs, InP приборы

Отжиг, силицидизация

Атм

Тонкопленочные резисторы

TCR

Отжиг пленок

Вак

Силовая электроника

Окисление

Si окисление

Окисление

Газ

ИС

 

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Быстрые термические процессы (RTP)