Premtek RTP-781SA - установка для проведения быстрых термических процессов
Внимание! Продукт больше не поставляется! По всем вопросам обращайтесь по телефону +7−(495)−228−72−04
Установка
Модель
Технические характеристики:
Диаметр пластин |
До 200 мм (2”, 3”, 4”, 6”, 8” ) |
Количество обрабатываемых пластин за один цикл |
16 шт. диаметром 2”; 4 шт. диаметром 4”; 1 шт. диаметром 8” |
Диапазон рабочих температур |
200 – 1250 °С, встроенная термопара |
Скорость нагрева |
≤ 50 °С/сек |
Точность поддержания температуры |
Для температур ниже 500 °С: ± 5 °С; Для температур выше 500 °С: ± 1% |
Температурная повторяемость |
± 2 °С |
Нагревательные лампы |
33 галогеновые ламп по 2 кВт |
Количество газовых линий |
2 шт. (стандартно) |
|
|
Опции |
Пирометр (800 – 1250 °С); 2 дополнительные газовые линии (в сумме до 4−х) |
Питание |
380 В, 50 Гц, 3 ф., 125 А |
Требуемые подключения |
Сжатый воздух: 4 – 6 бар; 120–150 л/мин Вода: 18 – 25 °С; 3−5 бар; 20 л/мин Азот: линия 1: 3−5 бар; 100 л/мин (макс.) линия 2: 3 бар; 10 л/мин (макс.) Вытяжка: > 300 л/мин |
Габариты (ШхГхВ) |
800х1300х1900 мм |
Вес |
330 кг |
Применение:
Область применения |
Продукт |
Процесс |
Среда |
Последующее использование |
LED |
Синий/зеленый светодиод |
Эпитаксия |
Атм |
Освещение, подсветка |
|
|
Отжиг ITO- распыление магнетроном |
Атм |
|
|
|
Отжиг ITO- ЭЛИ |
Вакуум |
|
|
УФ-светодиод |
Эпитаксия |
Атм |
УФ-отверждение |
|
|
Контактный отжиг |
Вакуум |
|
Лазерные устройства |
GaAs, InP лазерные диоды |
Эпитаксия |
Атм |
Оптоволоконная связь |
|
|
Отжиг |
Атм |
|
Пластина с кристаллами |
Отожженная пластина |
Снижение концентрации ННЗ |
атм |
пластина |
|
|
Формирование геттера |
Атм |
|
Силовая электроника |
Si, |
Пост имплантационный отжиг |
Атм |
BGT, MOSFET, Тиристоры, |
Отжиг, силицидизация |
вакуум |
|||
SiC приборы |
Пост имплантационный отжиг |
Атм |
||
|
P-контакт |
вакуум |
||
|
N-контакт |
вакуум |
||
GaN приборы GaN/Si, GaN/SiC, GaN/GaN |
Пост имплантационный отжиг |
Атм |
||
|
P-контакт |
Вакуум |
||
|
N-контакт |
Вакуум |
||
GaAs, InP приборы |
Отжиг, силицидизация |
Атм |
||
Тонкопленочные резисторы |
TCR |
Отжиг пленок |
Вак |
Силовая электроника |
Окисление |
Si окисление |
Окисление |
Газ |
ИС |