Установка атомно-слоевого осаждения Picosun P-1200 предназначена для
обработки подложек больших размеров, в том числе из гибких материалов, и
рассчитана на применение в крупносерийном промышленном производстве. Установка
Picosun P-1200 имеет инновационную модульную конструкцию, обеспечивает
максимальную производительность, минимальное время простоя, низкую стоимость
владения и высочайшее качество тонких плёнок с превосходной однородностью.
Установка PICOSUN P-1200 спроектирована для низкотемпературного осаждения
тонких плёнок, для изделий, чувствительных к нагреву, таких как устройства на
основе органической электроники и дисплеи. Основное применение – создание
различных пассивирующих и барьерных слоёв, качество которых определяет срок
службы вышеуказанных устройств.
Технические характеристики:
|
Типичный размер подложек и их тип
|
21 подложка (400 x 500 мм х 1 мм) с шагом 10 мм
28 подложек (370 x 470 мм х 1 мм) с шагом 10 мм
Гибкие подложки расположены в кассете горизонтально
|
|
Процессные температуры
|
50 – 120 °C
|
|
Доступные процессы
|
Осаждение Al2O3 и другие изкотемпературные
процессы
|
|
Загрузка подложек
|
Полуавтоматическая загрузка/выгрузка
Опционально: подогрев в загрузочных камерах (25 – 80 °C) для увеличения
производительности и удаления влаги
|
|
Пропускная способность
|
До 168 листов в сутки (осаждение 100 нм
Al2O3)
|
|
Химические реагенты (прекурсоры)
|
До 11 источников, 7 раздельных вакуумных вводов
Жидкостные, твердотельные и газообразные реагенты
|
