Современные решения для производства электроники

10 марта 2022

Компания Евроинтех расширяет линейку оборудования безмасковой литографии

Для создания на подложках микрорельефа со структурами микронных размеров удобно использовать технологию прямой литографии без фотошаблона. В этом случае рисунок в слое фоторезиста формируется с помощью точного лазерного воздействия либо с помощью проекционной технологии. А размеры формируемых структур зависят от размеров лазерного луча и точности его позиционирования.

Компания Евроинтех предлагает своим Заказчикам различное оборудование для безмасковой литографии, начиная от компактных установок для прототипирования и лабораторного применения и заканчивая полностью автоматизированным системами высокой точности.

Название оборудования

Минимальные размеры структур

Размеры подложек

POLOS NanoWriter

 

0,3 мкм, опционально 0,6 мкм и 0,9 мкм

Мин. 5х5 мм, макс. 125х125 мм

POLOS NanoWriter Advanced

 

0,8 мкм, опционально 1,5 мкм и 2,5 мкм

Мин. 5х5 мм, макс. 125х125 мм

DaLI

 

1 мкм

От долей мм до 100х100х10 мм

POLOS MicroPrinter

 

От 2 мкм до 23 мкм

До 100х100мм

keyboard_arrow_leftВернуться к списку
Новости