Современные решения для производства электроники

22 октября 2020

Кластерные системы атомно-слоевого осаждения PICOSUN® Morpher открывают новые возможности для силовой электроники

PICOSUN® Morpher – это новая платформа, разработанная специально для пластин диаметром до 8” (200 мм), используемых в производстве силовой электроники, МЭМС устройств, сенсоров, светодиодов, лазеров и 5G устройств. Система легко адаптируется в зависимости от задач и подходит как для исследовательских работ, так и для серийного производства. Модель Morpher позволяет работать с подложками различных материалов и размеров, возможно многослойное нанесение.

Силовая электроника включает в себя довольно широкий диапазон применений, начиная от потребительской электроники и транспортных технологий и заканчивая альтернативной энергетикой. Обычно для производства компонентов силовой электроники используются подложки 4−8” из арсенида галлия или карбида кремния. Эти материалы обладают рядом преимуществ по сравнению с чистым кремнием, например, имеют большую подвижность электронов, более высокое пороговое напряжение и могут работать при более высоких температурах. Однако, есть и недостатки этих материалов: высокая плотность ловушек и ток утечки, а также низкая стабильность порогового напряжения.

Снизить плотность ловушек можно с помощью методов предварительной очистки в сочетании с изоляционными слоями с большой запрещенной зоной. Нанесение диэлектрических слоев, таких как Al2O3, AlN или ZrO2, — это ключевой момент в снижении тока утечки устройств силовой электроники.

Технология атомно-слоевого осаждения показывает наилучшие результаты по сравнению с другими технологиями нанесения тонких пленок, поскольку наносимые слои получаются более однородными и бездефектными. АСО технология позволяет контролировать толщину наносимых пленок с высокой повторяемостью получаемых результатов. С правильным оборудованием для АСО можно провести практически любой процесс многослойного осаждения слоев различной функциональности.

Более подробно об оборудовании для атомно-слоевого осаждения Picosun.

keyboard_arrow_leftВернуться к списку
Новости