Изготовление трехмерных фотонных кристаллов с помощью многослойной фотолитографии

Борисова Ю.М., [email protected]

В последние годы наблюдается растущий интерес к исследованиям в области фотонных кристаллов, представляющих собой искусственно созданные среды, которые могут быть использованы для управления распространением электромагнитных волн. Как правило, такие кристаллы состоят из структур, обладающих периодичностью, сравнимой с длиной волны, для модуляции которой они предназначены. Если материал и периодическая структура подобраны правильно, фотонные кристаллы могут применяться во многих областях благодаря их уникальным свойствам.

Строго говоря, фотонные кристаллы должны обладать периодичностью в трех измерениях. Одним из методов изготовления трехмерных фотонных кристаллов является трехмерная фотолитография, когда, например, с помощью рентгеновского луча толстая пленка фоторезиста может быть «просверлена» под углом тремя экспозициями для формирования структуры яблоновита [1]. Также ранее уже было показано, что при правильном расположении нескольких лазерных лучей возможно создание трехмерных периодических структур [2], а произвольные трехмерные полимерные структуры могут быть получены путем многофотонной полимеризации [3].

Однако, несмотря на достигнутый значительный прогресс в развитии этих методов, все они имеют существенные недостатки. Так, рентгеновская литография требует дорогостоящего источника излучения, а лазерной интерферометрической литографии не хватает гибкости. Группа ученых из Делавэрского университета разработала процесс многослойной литографии для изготовления фотонных кристаллов.

Полную весию статьи читайте в PDF формате.