Современные решения для производства электроники

ABM/8/500/NUV/DCCD/M - ручная система совмещения по лицевой стороне большой площади (8”)


 
Основные технические характеристики:
 
— Размер области однородного излучения: 8”
— Однородность пучка:
    < ±1% в пределах области 4” (квадрат)
    < ±2% в пределах области 6” (квадрат)
    < ±3% в пределах области 8” (квадрат)
— Разрешающая способность:
    < 0.5 микрон для вакуумного и жёсткого контакта (экспонирование в ближнем УФ)
    < 0.8 микрон для мягкого контакта
    < 1 микрон для зазора 50 микрон
    < 2 микрона для зазора 100 микрон
— Точность совмещения: +/- 0.5 микрон
— Работа с позитивными, негативными и толстыми фоторезистами, толщина фоторезиста SU-8 до 300 микрон в пропорции до 10:1
— Мягкий, жёсткий, вакуумный контакт и экспонирование с зазором
— Управляющий источник питания с постоянной интенсивностью и мощностью
— Источник  света для ближнего УФ, 500 Вт, 8” (с широкополосным зеркалами 365/400/436 нм)
    365 нм: выходная интенсивность – 18−20 мВт/см2
    400 нм: выходная интенсивность – 35−40 мВт/см2
    436 нм: выходная интенсивность – 8−10 мВт/см2
— 8” источник излучения для экспонирования, спектральные линии G, H и I
— Ближний и дальний диапазон УФ излучения
— Работа с 2”- 8”, круглыми и квадратными  подложками
— Сдвоенная ПЗС-камера и микроскоп, с единым и расщеплённым полем (опция)
— Возможность расширения до двухсторонней системы экспонирования (опция).

Установки совмещения и экспонирования

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Совмещение и экспонирование