Современные решения для производства электроники

ABM/6/350/NUV/MR - система репликации маски

Система репликации маски включает в себя источник излучения (ближний и дальний УФ), источник питания и ручной либо автоматический контроллер экспозиции. Этот продукт в основном сосредоточен на процессе единичной литографии с высокой производительностью при низкой стоимости решения.

Основные технические характеристики:

— Область экспозиции может быть 4", 6", 8" и т.д. до 20"
— Источника света 6", 350Вт (ближний УФ)
— 365 нм: выходная интенсивность — 18−20 мВт/см2
— 400 нм: выходная интенсивность — 35−40 мВт/см2

Установки совмещения и экспонирования

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Совмещение и экспонирование