Современные решения для производства электроники

ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M - ручная система двустороннего совмещения

Основные технические характеристики:

— Точность совмещения по обратной стороне +/- 0.5 микрон
— Работа с позитивными, негативными и толстыми фоторезистами, толщина фоторезиста SU-8 до 300 микрон в пропорции до 10:1
— Мягкий, жёсткий, вакуумный контакт и экспонирование с зазором
— Управляющий источник питания с постоянной интенсивностью и мощностью
— Источник света для ближнего УФ, 350 Вт, 6” (с широкополосным зеркалами 365/400/436 нм)
     365 нм: выходная интенсивность – 20−22 мВт/см2
     400 нм: выходная интенсивность – 40−45 мВт/см2
     436 нм: выходная интенсивность – 10−12 мВт/см2
— 6” источник излучения для экспонирования, спектральные линии G, H и I
— Работа с 2”, 3” ,4”, 6” круглыми и квадратными подложками
— Регулируемый по мощности 2−х канальный источник питания для ближнего УФ с постоянной интенсивностью, мощность 350 Вт
— Источники питания 500, 1000 и 2000 Вт в ближнем и дальнем УФ (опция)
— Сдвоенная ПЗС-камера и микроскоп, с единым и расщеплённым полем (опция)
— Система совмещения по обратной стороне в инфракрасном и видимом диапазонах.

Установки совмещения и экспонирования

все продукты

Дополнительные материалы
keyboard_arrow_leftВсе продукты раздела Совмещение и экспонирование