24 марта 2021
Компания Osiris International представила новую установку UNIXX EBR A20
Компания Osiris International – производитель оборудования для фотолитографических процессов – представила новую установку UNIXX EBR A20, предназначенную для удаления краевого валика после нанесения фоторезиста.
Установка подходит для удаления краевого валика на подложках любой формы, в том числе круглых с базовым срезом, квадратных, кусков пластин и др. Установка может быть сконфигурирована для работы с различными растворителями или включать с себя источник УФ излучения.
Особенности и преимущества модели UNIXX EBR A20:
- Широкий диапазон толщин и материалов подложки, включая Si, SiC, стекло, пластик и т.д.
- Запатентованная технология Air-Beam
- Подложка выравнивается автоматически с помощью модуля выравнивания высокого разрешения
- Перемещение сопла по осям X, Y программируется в зависимости от формы или размера подложки
- Подача растворителя задаётся в технологической программе
- Подключение слива к системе предприятия